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污染原因
半導體廠車間廢氣凈化吸收裝置：對于半導體廠***而言，在去光阻工序中常會使用的去光阻液，雖絕有些工廠車間目前都已采用冷凝吸收器進行去光阻工序排氣前的預處理凈化并回收，回收效率約在90%以上，但對于其所衍生的低濃度(<5ppm)有機惡臭污染物，礙于既有處理等***限制，無法將所有問題***并解決，也長期造成從業者許多困擾，這些含硫化合物氣體不但是造成高科技業或相關園區廢水廠空氣污染臭味投訴的主因，同時也是使被污染的空氣導引進入如半導體晶圓制造廠及TFT-LCD。


 

建議技術
本案建議采用uv光解除臭設備，其系利用高能高臭氧UV紫外線光束照射，裂解惡臭氣體，以去除及凈化臭味物質。該設備購置運行成本低，適應性強，效率高，尤其適用于半導體廠、塑料廠、煉油廠、橡膠廠、化工廠、制藥廠、污水處理廠、垃圾轉運站等排放臭味氣體的處理，可以**解決吸附技術無法解決的臭味問題。

現有問題
因所處理的廢水含高科技業去光阻機臺的DMSO廢水，因此于廢水處理過程DMSO還原而產生DMS等還原性臭味，以DMS而言，其嗅覺閾值很低(<0.011-0.063ppmv)，大氣中只要含微量(低濃度)，就會產生明顯的惡臭氣味，若以現有冷凝吸收設備，無法**解決所衍生的臭味問題，車間無法**解決廢水廠有機廢氣臭味的問題。