Park XE7
創新研究的經濟之選
Park XE7配有Park Systems的所有技術，而且價格十分親民。XE7在細節的設計上也相當用心，是幫助您準確且不超預算地完成研究的理想之選。
無與倫比的高性能
在同***產品中，Park XE7能夠帶來納米***分辨率的測量效果。得益于獨特的原子力顯微鏡架構，即獨立的XY軸和Z軸柔性掃描器，XE7能夠實現平滑、正交且線性的掃描測量，從而精確成像和測量樣品的特征。此外，Park所獨有的True Non-Contact?模式還能為您帶來前所未有的圖像效果，探針可以在多次掃描后圖像的分辨率仍不會受影響。
滿足當前和未來需求
在Park XE7的幫助下，現在與未來皆在您的掌控中。Park XE7帶有業內*全面的測量模式。這些模式不僅能滿足您目前的需求，也考慮到未來不斷變化的需求。再者，XE7具有市場上*為開放性的設計，允許您整合其他附件和儀器，從而滿足您特殊的研究需求。
易于使用和高生產率
Park XE7擁有簡潔的圖形用戶界面和自動化工具，即便是初學者也可以快速地完成對樣品的掃描。無論是預準直探針、簡單的樣品和探針更換、輕松的激光準直、自上而下的同軸視角以及用戶友好型掃描控制和軟件處理，XE7能夠全力推動研究效率的提高。
經濟實惠超越了系統成本
Park XE7不僅僅是性價比的研究***原子力顯微鏡，也是使用成本的原子力顯微鏡。Park XE7中所搭載的True Non-Contact?模式讓用戶無需頻繁更換昂貴的探針尖端，并且它配有業內*多的掃描模式，兼容性極佳，讓您可隨時升***系統功能，從而延長產品的使用壽命
Park XE7
滿足研究的創新功能
精確的XY方向掃描，徹底消除了交叉耦合誤差
■樣品探針和針尖的兩種獨立閉環XY和Z平板式掃描
■平板式和線性XY掃描，殘余彎曲誤差極小
■整個掃描范圍內的水平線性誤差小于2nm
■精確的高度測量
Non-ContactTM(真正非接觸TM)模式能夠延長針尖壽命，
提供高分辨率和保護樣品。
■其Z伺服速度是壓電管基礎系統的10倍
■非接觸式可降低針尖摩損、延長使用壽命
■成像分辨率優于同類原子力顯微鏡
■增強樣品兼容性，提高掃描速度
*豐富的功能拓展方案
■支持多種SPM模式
■多種可選配測量模式
■多種可選配件及更新，擴展性能優越
*為便利的使用設計
■開放式樣品空間，提高樣品及針尖更換效率
■預對準針尖安裝和同軸直視光路直觀地實現激光對準
■燕尾鎖方便鏡頭拆卸
Park XE7
AFM技術
無掃描器弓形彎曲的平直正交XY軸掃描
Park的串擾消除技術不僅改善了掃描器弓形彎曲的缺點還能夠在各種不同掃描位置，掃描速度和掃描尺寸條件下進行平直正交的XY軸掃描。即使是*平坦的樣品也不會出現如光學平面，各種偏移掃描等曲率的背景。由此可以為您在研究中遇到的所有極具挑戰性的問題提供高精確度的納米測量。
無耦合關系的XY和Z掃描器
Park和競爭對手*根本的區別在于掃描器的構造，Park獨特又獨立的XY軸與Z軸掃描器設計使其達到了無可比擬的高精度的納米分辨率數據。
精確的表面測量
樣品表面平直掃描!
■低殘差弓形彎曲
■無需軟件處理(原始數據)
■不受掃描位置影響也會有精確的掃描結果
真正非接觸模式TM可保護針尖鋒利度
原子力顯微鏡的針尖本身很脆弱，在掃描過程中，針尖磨損會逐漸降圖片質量和分辨率。
測量表面軟的樣品時，針尖也會破壞樣品并生成不準確的樣品高度測量數據。
作為Park原子力顯微鏡*獨特的***種掃描模式，
真正非接觸模式TM可持續獲得高分辨率且精確的數據，同時保持針尖的完整性。
Park XE7
配備創新的AFM技術
■10 um x 10um掃描范圍的二維柔性導向掃描器
XY軸掃描器含有對稱的二維柔性和高強度壓電疊堆，可在保持平面外運動*少的情況下，實現高正交運動以及納米***樣品掃描下的高影響度。緊湊且堅固的結構是為了低噪聲高速伺服回應而設計的。
■柔性導向的高強力Z軸掃描器
憑借著高強度壓電疊堆和柔性結構，其可以允許掃描器以的速度縱向移動，這是傳統原子力顯微鏡中掃描器所無法做到的。Z軸掃描范圍可從標準的12μm增至40μm(選配件，長距離Z軸掃描器)。
■滑動連接的SLD掃描頭
燕尾式軌道設計，輕松更換原子力顯微鏡鏡頭。該設計可將鏡頭自動鎖定至預對準的位置，同時與電路系統連接，無線纜操作，重復定位精度幾奈米。借助低相干性的830nmSLD激光器，顯微鏡可精確成像并可在皮牛量***進行力-距離曲線獲取。此外，SLD激光器830nm的波長也消除了環境光照的干擾，讓用戶可隨意在可見光譜實驗中使用原子力顯微鏡。
■操作簡易的樣品臺
開放式設計可容納100mm*100mm*20mm的樣品，且可輕易從側面更換樣品和探針。
■手動的XY軸樣品臺
在手動XY軸樣品臺的精確控制下，樣品的測量定位變得簡單。 XY軸樣品臺的行程范圍是13mm x 13mm。
■手動的光學對焦平臺
同軸鏡頭可手動調焦。
以DSP為核心的電路控制系統
原子力顯微鏡的納米***信號是由高性能的Park XE電子控制器所控制和處理的。憑借著低噪聲設計和高速處理單元，Park XE電子控制器成功實現了True Non-ContactTM模式，這是納米***成像和精確電壓電流測量的絕佳選擇。
■高性能DSP，頻率達600MHz，處理速度高達4800MIPS
■低噪聲設計，帶來精確的電流電壓測量
■全能系統，融合各種掃描探針顯微鏡技術
■外部信號獲取模塊，獲取原子力顯微鏡輸入/輸出信號
■16位數字圖像
■16位數字圖像
■16位ADC/DAC，頻率為500kHz
■利用TCP/IP連接隔離電腦噪聲
Park XE7
世界上****和*容易操作的AFM
10μm x10μm掃描范圍的二維撓性導向掃描器
XY掃描器含系統二維柔性和強力壓電堆疊，全范圍正交移動時，具有業界*小的水平線性誤差，并能實現精確的樣品納米***掃描。
帶高分辨率的同軸直視光路
同軸直視光路使得用戶直接俯視觀看樣品，從而很容易就能找到目標區域。高分辨率CCD具備變焦功能，移動過程中可確保清晰的圖像質量。
簡單的探針和樣品更換
獨特的頭部設計讓您能夠輕易地從側面更換新的探針和樣品。借助安裝懸臂式探針夾頭中預先對齊的懸臂，你無需進行繁染的激光校準工作。
簡單且敏銳的激光校準
憑借著我們的預校準懸臂架，懸臂在裝載時激光便可聚焦完畢。此外，自上而下的同軸視角讓您可以輕松地找到激光光點。由于激光垂直照射在懸臂上，您可以憑兩個定位旋鈕，將激光光點準確定位。這樣，您可以在激光準直界面中，輕易地找到激光并將其定位在PSPD上。此時，您只需要稍微調整以化信號，便可開始獲取數據。
Park XE
適用于任何研究
標準成像
■真正的非接觸模式
■接觸模式
■間歇式(輕敵式)AFM
■橫向力模式(LFM)
■相位成像
化學性能
■功能化探針的化學力顯微鏡
■電化學顯微鏡(EC-STM和EC-AFM)
介電/電壓性能
■靜電力顯微鏡(EFM)
■動態接觸式靜電力顯微鏡(DC-EFM)
■壓電力顯微鏡(PFM)
■高電壓PFM
力測量
■力-距離(F-D)光譜
■力-體積成像
■熱噪聲法標定彈性系數
電性能
■導電AFM
■IV譜線
■掃描開爾文探針顯微鏡(SKPM/KPM)
■高電壓SKPM
■掃描電容顯微鏡(SCM)
■掃描電阻顯微鏡(SSRM)
■掃描隧道顯微鏡(STM)
■掃描隧道光譜(STS)
■時間分辨的光電流測繪(Tr-PCM)
磁性能
■磁力顯微鏡(MFM)
■可調外加磁場MFM
機械性能
■力調制顯微鏡(FMM)
■納米壓痕
■納米刻蝕
■高電壓納米刻蝕
■納米操控
■壓電力顯微鏡(PFM)
光學性能
■探針增強拉曼光譜(TERS)
■時間分辨的光電流測繪(Tr-PCM)
熱性能
■掃描熱感顯微鏡
選項
25μmZ掃描器
■工作距離：25μm
■激光類型：LD(650nm)orSLD(830nm)
■掃描器諧振頻率：1.7kHz
■零位掃描噪聲：0.03nm(typical),0.05nm(maximum)
光學頭
■光學兼容性：上方及側面
■激光類型：LD(650nm)orSLD(830nm)
■Z掃描范圍：12μm or 25μm
■零位掃描噪聲：0.03nm(typical),0.05nm(maximum)
■掃描器諧振頻率：3kHz(12μm XE Head),1.7kHz(25μm XE Head)
磁場發生器
■施加外部磁場，平行于樣品表面方向
■強度范圍：-300 ~+300 高斯,-1500 ~ +1500高斯
■磁場強度可調
■由純鐵芯和雙螺線管組成
夾制探手
■適用于未裝載的探針
■可以為電力顯微鏡和導電顯微鏡提供偏壓
■探針偏壓范圍：-10V to +10V
■支持所有標準模式及高***模式，掃描隧道顯微鏡、掃描電容顯微鏡及液體成像除外。
液體池
■多功能液池
注滿液體/氣體的開式或閉式液池
控溫范圍：4°C to +110°C(in air), 4°C to +70°C(with liquid)
■電化學工作池
■開放/閉式液池
液池用探手
■專為液體環境成像設計
■耐常見緩沖液及弱酸堿腐蝕
■在液體環境下實現接觸和非接觸成像
控溫臺
■制熱制冷臺(-25~180度)
■250度控溫臺
■600度0控溫臺
信號接入模塊
■使原子力顯微鏡可接入各種輸入/輸出信號
■XY及Z掃描器的掃描器驅動信號
■XY及Z掃描器的位置信號
■垂直/水平方便的懸臂撓度信號
■樣品及懸臂的偏壓信號
■XE7的驅動信號
■系統的輔助輸入信號
Park XE7
規格
掃描器
XY掃描器
閉環控制式單模塊柔性XY-掃描器
掃描范圍：100μm x 100μm
50μm x 50μm
10μm x 10μm
Z掃描器
柔性引導高力度掃描器
掃描范圍：12μm
25μm
光學系統
可觀察樣品和探針的直視同軸光學系統
10X物鏡(可選20X)
視場：480X360μm
CCD：1M像素(像素分辨率：0.4μm)
樣品尺寸
樣品尺寸：10mm
樣品高度：20mm
電路系統
高性能DSP : 600 MHz with 4800 MIPS
圖像尺寸: 4096 x 4096像素, 16個數據圖像
信號輸入： 在500kHz取樣時, 16位ADC的20個通道
信號輸出： 在500kHz取樣時, 16位ADC的21個通道
同步信號 ：圖像結束, 線結束及像素結束TTL信號
主動Q控制(選配)
懸臂梁彈性常數校準(選配)
CE Compliant
電源 : 120 W
信號處理模塊 (選配)
選項/模式
標準成像
真正的非接觸模式
接觸模式
間歇式(輕敲式)AFM
橫向力模式(LFM)
相位成像
化學性能
功能化探針的化學力顯微鏡
電化學顯微鏡(EC-STM和EC-AFM)
介電/壓電性能
靜電力顯微鏡(EFM)
動態接觸式靜電力顯微鏡(DC-EFM)
壓電力顯微鏡(PFM)
高電壓PFM
力測量
力-距離(F-D)光譜
力-體積成像
磁性能
磁力顯微鏡(MFM)
可調外加磁場MFM
光學性能
探針增強行拉曼光譜(TERS)
時間分辨的光電流測繪(Tr-PCM)
電性能
導電AFM
I-V譜線
掃描開爾文探針顯微鏡(SKPM/KPM)
高電壓SKPM
掃描電容顯微鏡(SCM)
掃描電阻顯微鏡(SSRM)
掃描隧道顯微鏡(STM)
掃描隧道光譜(STS)
時間分辨的光電流測繪(Tr-PCM)
機械性能
力調制顯微鏡(FMM)
納米壓痕
納米刻蝕
納米刻蝕
納米操縱
壓電力顯微鏡(PFM)
熱性能
掃描熱感顯微鏡
樣品臺
XY臺工作范圍：13X13mm
Z臺工作范圍：29.5mm
聚焦臺工作范圍：70mm
軟件
XEP
系統控制和數據采集的專用軟件
實時調整反饋參數
通過外部程序(選項)進行腳本***控制
XEI
AFM數據分析軟件
滬公網安備31011502016460號
