SEMILAB-全光譜橢偏儀GES5E
價(jià) 格：詢價(jià)
產(chǎn) 地：更新時(shí)間：2021-01-18 16:44
品 牌：型 號(hào)：SEMILAB-全光譜橢偏儀GES5E
狀 態(tài)：正常點(diǎn)擊量：2842
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SEMILAB-全光譜橢偏儀GES5E
(Spectroscopic Ellipsometer)
SEMILAB成立于1989年，總部位于匈牙利布達(dá)佩斯，為生產(chǎn)、研發(fā)中心，客戶遍布全球。在歐洲、和亞洲主要******都設(shè)有分支機(jī)構(gòu), 在美***設(shè)有工廠和研發(fā)中心。SEMILAB擁有全球zui***的電學(xué)和光學(xué)表征技術(shù)，產(chǎn)品被廣泛應(yīng)用于光伏、半導(dǎo)體、科研以及平板測(cè)試領(lǐng)域。憑借的測(cè)試設(shè)備，為客戶的生產(chǎn)和質(zhì)量監(jiān)控提供***套完整的測(cè)試方案，在行業(yè)中始終處于領(lǐng)xian地位。
公司建成后迅速發(fā)展, 自2004年以來相繼收購了包括SemiTest、SSM、Sopra、QC Solution、AMS、SDI和Todival Solar在內(nèi)的業(yè)內(nèi)知名測(cè)試公司，同時(shí)囊獲了IBM的JPV、AMAT的Boxes Cross、以及德***Basler公司的zhuan li技術(shù)。
隨著市場(chǎng)的不斷擴(kuò)張，SEMILAB于2000年進(jìn)入中***市場(chǎng)，6年后成立代表處，并于2009年在上海成立全資子公司“瑟米萊伯貿(mào)易（上海）有限公司”。子公司成立以來，業(yè)務(wù)量發(fā)展迅猛，于2010年成立了TSS寄售維修中心，并于次年在無錫新增了售后服務(wù)中心，上海公司隨之成為亞洲的銷售及售后服務(wù)中心。公司秉承專ye、團(tuán)隊(duì)、激情的文化理念，始終堅(jiān)持為客戶提供*hao的測(cè)試方案和完善的售后服務(wù)。
產(chǎn)品描述
| GES5E全光譜橢偏儀基于橢圓偏振測(cè)試技術(shù)，采用的旋轉(zhuǎn)補(bǔ)償器，結(jié)合光纖專li技術(shù)將偏振光信號(hào)傳輸至分段光譜優(yōu)化的高分辨率單色儀或陣列式多通道攝譜儀，測(cè)得線偏振光經(jīng)過樣品反射后的偏振態(tài)變化情況，并通過樣品光學(xué)模型的建立，計(jì)算出單層或多層薄膜結(jié)構(gòu)的厚度、折射率和消光系數(shù)，實(shí)現(xiàn)精確、快速、穩(wěn)定的寬光譜橢偏測(cè)試。 |
| GES5E是Semilab針對(duì)科研院所和企業(yè)研發(fā)中心推出的多功能桌面 型旗艦產(chǎn)品。為了滿足科研院所及研發(fā)中心對(duì)于復(fù)雜薄膜材料和復(fù)雜多層薄膜結(jié)構(gòu)的綜合型測(cè)試需求，GES5E采用了模塊化的設(shè)計(jì)，可自由組合多種掃描和真空變溫樣品臺(tái)，多種從135nm深紫外光譜至2400nm近紅外光譜的探測(cè)器，多種測(cè)試光斑尺寸，并可拓展FTIR紅外光譜測(cè)試模組、EPA薄膜孔隙率測(cè)試模組、渦電流法非接觸方塊電阻測(cè)試模組、Mueller Matrix各項(xiàng)異性材料測(cè)試模組、Raman結(jié)晶率測(cè)試模組、反射干涉測(cè)試模組、透射率和反射率測(cè)試模組等多種功能，為方便用戶合理配置，Semilab支持絕大部分模組的后續(xù)升***服務(wù)。 |
產(chǎn)品特點(diǎn)
| 業(yè)界第yi***光譜型橢偏儀測(cè)試設(shè)備廠商 |
| 業(yè)界標(biāo)準(zhǔn)測(cè)試機(jī)構(gòu)定標(biāo)設(shè)備，參與發(fā)布中華人民共和***橢圓偏振測(cè)試技術(shù)標(biāo)準(zhǔn) |
| 非接觸、無損測(cè)試所測(cè)樣品無損傷的測(cè)量 |
| 業(yè)界*寬測(cè)試光譜范圍，選配135nm-25um，并可自動(dòng)切換快速探測(cè)模式和高精度探測(cè)模式 |
| 測(cè)試功能延展性強(qiáng)，并支持后續(xù)升***服務(wù) |
| 定期免費(fèi)升***SOPRA材料數(shù)據(jù)庫 |
| 開放光學(xué)模型擬合分析過程，方便用戶優(yōu)化測(cè)試菜單 |
主要應(yīng)用
| 光伏行業(yè)：晶硅電池減反膜、薄膜電池透明導(dǎo)電膜、非晶硅微晶硅薄膜電池、CIGS薄膜電池、CdTe薄膜電池、有機(jī)電池、染劑敏感太陽能電池 |
| 半導(dǎo)體行業(yè)：High-K、Low-K、金屬、光刻工藝、半導(dǎo)體鍍膜工藝、外延工藝 |
| 平板顯示行業(yè)：TFT、OLED、LTPS、IGZO、彩色濾光片 |
| 光電行業(yè)：光波導(dǎo)、減反膜、III-V族器件、MEMS、溶膠凝膠 |
主要技術(shù)指標(biāo)
| 測(cè)試速度：＜1 sec （快速測(cè)試模式）
＜120 sec （高分辨率測(cè)試模式） |
| 測(cè)量光譜分辨率：＜0.5nm@633nm （高分辨率測(cè)試模式）
＜0.8nm@633nm （快速測(cè)試模式） |
| 樣品尺寸： 300mm |
| 厚度測(cè)量范圍：0.01nm-50um |
| 厚度測(cè)試精度：0.02nm @120nm SiO2 on Si |
| 折射率測(cè)試精度：0.002 @120nm SiO2 on Si |
滬公網(wǎng)安備31011502016460號(hào)
