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德國 Sentech 反應離子刻蝕機

價  格:詢價

產  地:更新時間:2021-01-19 15:36

品  牌:型  號:RIE SI591

狀  態:正常點擊量:2936

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上海非利加實業有限公司

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ENTECH RIE SI591 平板電容式反應離子刻蝕機


 

商品描述: 

 

RIE SI591;兼容多種氯基或氟基刻蝕工藝;小型化和高度模塊化;SENTECH控制軟件;

 

Process flexibility工藝靈活性 
反應離子刻蝕機 SI 591系列兼容多種氯基或氟基刻蝕工藝。 
Small footprint and high modularity設備小型化和高度模塊化 
Si591系列可設置為單腔系統或帶盒式裝片的多腔系統。 
SENTECH control software SENTECH控制軟件 
控制軟件包括模擬用戶界面,參數窗口,工藝程序編輯器,數據記錄和用戶管理。 

SI 591的真空裝載片裝置和完全由計算機控制工藝條件的軟件系統,使其具優良的工藝重復性。靈活、模塊化和小型化是SI591系統的設計特點,能容納200mm(8跡┑難坊蛟仄獺 

SI591系統通過不同選件可實現穿墻安裝或*小占地面積。 

大觀察窗位于上電極頂部,反應器能方便的容納SENTECH激光干涉儀或者OES、RGA系統。用SENTECH橢偏儀可以在設備上通過橢偏儀端口進行在線工藝監控。
 

SI591系統沿承了RIE的平行板電極設計優勢,刻蝕過程全部由計算機控制,可以進行多種材料的刻蝕。SENTECH還可提供多種自動化配置,從真空盒式裝片到*多六個端口的沉積刻蝕多腔系統,用以提高設備的靈活性和產能。SI591也可以作為多腔系統的模塊組成部分。 

SI 591 compact 
• RIE plasma etcher with small footprint 
• Loadlock 
• Halogen and fluorine chemistry 
• For up to 200 mm wafers 
• Diagnostic windows for laser interferometer and OES 

SI591 Cluster 
• Configurations of up to 6-port transfer chamber available 
• Combination of RIE, ICP-RIE, and PECVD 
• Manual vacuum loadlock or cassette station 
• Cluster for R & D and high throughput 
• SENTECH control software

 

 

產品參數


產品介紹



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