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商品編號：89249

微波等離子化學氣相沉積系統(tǒng)

價格：詢價

產(chǎn) 地：更新時間：2021-01-19 15:36

品牌：型號：德 Iplas 微波等離子化學氣相沉積

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德 Iplas 微波等離子化學氣相沉積

詳細介紹

德*** IPLAS 微波等離子化學氣相沉積技術(shù)（MPCVD), 通過等離子增加前驅(qū)體的反應速率，降低反應溫度。適合制備面積大、均勻性好、純度高、結(jié)晶形態(tài)好的高質(zhì)量硬質(zhì)薄膜和晶體。

MPCVD是世界公認的制備大尺寸單晶金剛石有效手段。德***iplas公司的 CYRANNUS^® 等離子技術(shù)解決了傳統(tǒng)等離子技術(shù)的局限，可以在10mbar到室壓范圍內(nèi)激發(fā)高穩(wěn)定度的等離子團，限度的減少了因氣流、氣壓、氣體成分、電壓等因素波動引起的等離子體狀態(tài)的變化，從而確保單晶生長的持續(xù)性，為合成大尺寸單晶金剛石提供有力保證。

化學機理概要：

碳氫化合物：提供沉積材料

氫氣：生成sp³鍵

氧：對石墨相/sp²鍵侵蝕

惰性氣體：緩沖氣體，或生成納米晶體。

適用合成材料：

大尺寸寶石***單晶鉆石

高取向度金剛石晶體

納米結(jié)晶金剛石

碳納米管/類金剛石碳（DLC）

金剛石薄膜

寶石***鉆石

vvs1,~1 carrat, E grade

多種等離子發(fā)生器選擇：頻率：2.45GHz, 915MHz: 功率：1-2kW, 1-3kW, 3-6kW,1-6kW，5-30kW 等離子團直徑：70mm, 145mm, 250mm, 400mm 工作其他范圍：0-1000mBar
		其他應用： MPCVD同樣適用于平面基體，或曲面顆粒的其它硬質(zhì)材料如Al₂O₃，c-BN的薄膜沉積和晶體合成。德***iplas公司憑借幾十年在等離子技術(shù)領域的積累，可以為用戶提供高度定制的設備，滿足用戶不同的應用需要。

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微波等離子化學氣相沉積系統(tǒng)

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